Impact of layout pickups to ESD robustness of MOS transistors in sub 100-nm CMOS process

Ming-Dou Ker*, Yong Ru Wen, Wen Yi Chen, Chun Yu Lin

*此作品的通信作者

    研究成果: Conference contribution › 同行評審

    11 引文 斯高帕斯（Scopus）

    指紋

    深入研究「Impact of layout pickups to ESD robustness of MOS transistors in sub 100-nm CMOS process」主題。共同形成了獨特的指紋。

    Engineering & Materials Science