Impact of High-Temperature Annealing on Interfacial Layers Grown by O2 Plasma on Si0.5Ge0.5 Substrates

Meng Chien Lee, Hung Ru Lin, Wei Li Lee, Nien Ju Chung, Guang Li Luo, Chao Hsin Chien*

*此作品的通信作者

研究成果: Article同行評審

4 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Impact of High-Temperature Annealing on Interfacial Layers Grown by O2 Plasma on Si0.5Ge0.5 Substrates」主題。共同形成了獨特的指紋。

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