Impact of High-K Offset Spacer in 65-nm Node SOI Devices

Ming Wen Ma, Tan Fu Lei, Chien Hung Wu, Shui Jinn Wang, Tsung Yu Yang, Kuo Hsing Kao, Woei Cherng Wu, Tien-Sheng Chao

研究成果: Article › 同行評審

25 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Impact of High-K Offset Spacer in 65-nm Node SOI Devices」主題。共同形成了獨特的指紋。

Chemical Compounds

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