Hydrogen Iodide (HI) Neutral Beam Etching for InGaN/GaN Micro-LED

Takahiro Ishihara, Daisuke Ohori, Xuelun Wang, Kazuhiko Endo, Nobuhiro Natori, Daisuke Sato, Yi-Ming Li, Seiji Samukawa*

*此作品的通信作者

研究成果: Conference contribution › 同行評審

指紋

深入研究「Hydrogen Iodide (HI) Neutral Beam Etching for InGaN/GaN Micro-LED」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Material Science

Engineering