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High quality low-temperature GaAs film grown by conventional metalorganic chemical vapor deposition
Wei-Kuo Chen
, Chen Shiung Chang, Wen Chung Chen
電子物理學系
研究成果
:
Paper
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同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「High quality low-temperature GaAs film grown by conventional metalorganic chemical vapor deposition」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Metal-organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)
100%
Low-temperature-grown GaAs
100%
GaAs Film
100%
X-ray
33%
Low Temperature
33%
Epitaxial
33%
Good Quality
33%
Full Width at Half Maximum
33%
Trimethylgallium
33%
Chemical Vapor Deposition Technique
33%
Double-crystal
33%
Chemical Vapor Deposition Growth
33%
Growth Techniques
33%
Engineering
Gallium Arsenide
100%
Chemical Vapor Deposition
100%
Low-Temperature
100%
Vapor Deposition
100%
Material Science
Gallium Arsenide
100%
Film
100%
Chemical Vapor Deposition
100%
Physics
Metalorganic Chemical Vapor Deposition
100%