High-performance HfO2 gate dielectrics fluorinated by postdeposition CF4 plasma treatment
Woei Cherng Wu*, Chao Sung Lai, Jer Chyi Wang, Jian Hao Chen, Ming Wen Ma, Tien-Sheng Chao
*此作品的通信作者
研究成果: Article › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）