High-Interface-Quality Hf-Based Gate Stacks on Si0.5Ge0.5Through Aluminum Capping

Meng Chien Lee, Wei Li Lee, Hung Ru Lin, Guang Li Luo, Chao Hsin Chien*

*此作品的通信作者

研究成果: Article同行評審

6 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「High-Interface-Quality Hf-Based Gate Stacks on Si0.5Ge0.5Through Aluminum Capping」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Material Science

Engineering