Ge FinFET CMOS Inverters with Improved Channel Surface Roughness by Using In-situ ALD Digital O3 Treatment
M. S. Yeh, G. L. Luo, F. J. Hou, P. J. Sung, C. J. Wang, C. J. Su, C. T. Wu, Y. C. Huang, T. C. Hong, Tien-Sheng Chao, B. Y. Chen, K. M. Chen, M. Izawa, M. Miura, M. Morimoto, H. Ishimura, Y. J. Lee, W. F. Wu, W. K. Yeh
研究成果: Conference contribution › 同行評審
6
引文
斯高帕斯（Scopus）