Fringing electric field effect on 65-nm-node fully depleted silicon-on-insulator devices

Ming Wen Ma*, Tien-Sheng Chao, Kuo Hsing Kao, Jyun Siang Huang, Tan Fu Lei

*此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

3 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Fringing electric field effect on 65-nm-node fully depleted silicon-on-insulator devices」主題。共同形成了獨特的指紋。

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