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Formation and structure of epitaxial NiSi
2
and CoSi
2
L. J. Chen
*
, J. W. Mayer, King-Ning Tu
*
此作品的通信作者
國際半導體產業學院
研究成果
:
Article
›
同行評審
59
引文 斯高帕斯（Scopus）
總覽
指紋
指紋
深入研究「Formation and structure of epitaxial NiSi
2
and CoSi
2
」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Silicides
100%
Annealing
43%
Silicon
34%
Precipitates
30%
Thin films
27%
Burgers vector
25%
Imaging techniques
22%
Cobalt
16%
Diffraction
15%
Transmission electron microscopy
15%
Nickel
13%
Furnaces
12%
Substrates
10%
Physics & Astronomy
silicides
75%
annealing
26%
silicon
23%
thin films
15%
cobalt
13%
furnaces
13%
nickel
11%
spacing
11%
transmission electron microscopy
9%
matrices
8%
diffraction
7%
Chemical Compounds
Annealing
34%
Chemical Transformation
27%
Superlattice
15%
Polycrystalline Solid
13%
Strain
10%
Transmission Electron Microscopy
9%