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FILM STRESS IN Pd//2Si LAYERS OF VARYING THICKNESS.
Betty Coulman
*
, H. D. Chen, Kenneth Ritz
*
此作品的通信作者
國際半導體產業學院
研究成果
:
Conference contribution
›
同行評審
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指紋
指紋
深入研究「FILM STRESS IN Pd//2Si LAYERS OF VARYING THICKNESS.」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Film Stress
100%
Very Thin Films
100%
Si Substrate
50%
Electron Microscopy
50%
Angstrom
50%
Double-crystal
50%
Pd Film
50%
Radius of Curvature
50%
Thin Film Thickness
50%
Technological Applications
50%
Low Coverage
50%
Stoney Equation
50%
X-ray Diffraction Topography
50%
Film Continuity
50%
Lang
50%
Engineering
Thin Films
100%
Si Substrate
50%
Stoney Equation
50%
X-Ray Diffraction Topography
50%
Material Science
Film
100%
Thin Films
33%
X-Ray Diffraction
16%
Film Thickness
16%
Electron Microscopy
16%
Diffraction Topography
16%