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Fabrication of high electrical performance NILC-TFTs using FSG buffer layer
C. C. Chen,
Yew-Chuhg Wu
, T. F. Tung, H. Y. Wu
材料科學與工程學系
研究成果
:
Conference contribution
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同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Fabrication of high electrical performance NILC-TFTs using FSG buffer layer」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Buffer layers
100%
Silicates
81%
Crystallization
76%
Glass
55%
Fabrication
51%
Fluorine
48%
Hot carriers
46%
Metals
45%
Thin film transistors
44%
Passivation
42%
Polysilicon
40%
Ions
32%