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Fabrication and characterization of field-effect transistors with suspended-nanowire channels
Chia Hao Kuo,
Horng-Chih Lin
*
, Tiao Yuan Huang
*
此作品的通信作者
電子研究所
研究成果
:
Article
›
同行評審
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指紋
指紋
深入研究「Fabrication and characterization of field-effect transistors with suspended-nanowire channels」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Field-effect Transistors
100%
Nanowire Channel
100%
Suspended Nanowire
100%
Hysteresis Characteristics
66%
Air Gap
33%
Channel Length
33%
Pullout
33%
Subthreshold Swing
33%
Wet Etch Process
33%
Voltage Swing
33%
Cycling Test
33%
Stiction
33%
Small Aspect Ratio
33%
Air Gap Length
33%
Engineering
Field-Effect Transistor
100%
Nanowire
100%
Channel Length
33%
Etching Process
33%
Stiction
33%
Aspect Ratio
33%
Material Science
Nanowire
100%
Field Effect Transistor
100%
Wet Etching
33%