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Estimating the Process Variation Effects of Stacked Gate All Around Si Nanosheet CFETs Using Artificial Neural Network Modeling Framework

  • Rajat Butola
  • , Yiming Li*
  • , Sekhar Reddy Kola
  • , Min Hui Chuang
  • , Chandni Akbar
    • *此作品的通信作者

研究成果: Conference contribution › 同行評審

7 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Estimating the Process Variation Effects of Stacked Gate All Around Si Nanosheet CFETs Using Artificial Neural Network Modeling Framework」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

Keyphrases

Computer Science

Material Science

Chemical Engineering