ESD protection design in a 0.18-μm salicide CMOS technology by using substrate-triggered technique

Ming-Dou Ker*, T. Y. Chen, Chung-Yu Wu

*此作品的通信作者

    研究成果: Conference article › 同行評審

    2 引文 斯高帕斯（Scopus）

    指紋

    深入研究「ESD protection design in a 0.18-μm salicide CMOS technology by using substrate-triggered technique」主題。共同形成了獨特的指紋。

    Keyphrases

    Computer Science

    Engineering

    Material Science