Ellipsometry study on refractive index profiles of the SiO 2/Si3N4/SiO2/Si structure

Tien-Sheng Chao*, Chung Len Lee, Tan Fu Lei

*此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

9 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Ellipsometry study on refractive index profiles of the SiO 2/Si3N4/SiO2/Si structure」主題。共同形成了獨特的指紋。

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