Elimination of dielectric degradation for chemical-mechanical planarization of low-k hydrogen silisesquioxane

Ting Chang Chang*, Po-Tsun Liu, Tsung Ming Tsai, Fon Shan Yeh, Tseung-Yuen Tseng, Ming Shih Tsai, Ben Chang Chen, Ya Liang Yang, Simon M. Sze

*此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

8 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Elimination of dielectric degradation for chemical-mechanical planarization of low-k hydrogen silisesquioxane」主題。共同形成了獨特的指紋。

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