Electrical properties of SiGe nanowire following fluorine/nitrogen plasma treatment

Kow-Ming Chang, Chu Feng Chen*, Chiung Hui Lai, Po Shen Kuo, Yi Ming Chen, Tai Yuan Chang

*此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

2 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Electrical properties of SiGe nanowire following fluorine/nitrogen plasma treatment」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Material Science