Electrical performance improvement in SiO2/HfSiO high-k gate stack for advanced low power device application
M. F. Wang*, Tuo-Hung Hou, K. L. Mai, P. S. Lim, L. G. Yao, Y. Jin, S. C. Chen, M. S. Liang, W. H. Wu, S. C. Ou, M. C. Chen, T. Y. Huang
*此作品的通信作者
研究成果: Conference contribution › 同行評審
3
引文
斯高帕斯（Scopus）