Effectively blocking copper diffusion at low-k hydrogen silsesquioxane/copper interface

Po-Tsun Liu*, TC Chang, YL Yang, YF Cheng, FY Shih, JK Lee, E Tsai, SM Sze

*此作品的通信作者

研究成果: Article同行評審

22 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Effectively blocking copper diffusion at low-k hydrogen silsesquioxane/copper interface」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Material Science