Effective repair to ultra-low-k dielectric material (k∼2.0) by hexamethyldisilazane treatment
- Y. S. Mor
- , T. C. Chang*
- , Po-Tsun Liu
- , T. M. Tsai
- , C. W. Chen
- , S. T. Yan
- , C. J. Chu
- , W. F. Wu
- , Fu-Ming Pan
- , Water Lur
- , S. M. Sze
*此作品的通信作者
研究成果: Conference article › 同行評審
90
引文
斯高帕斯（Scopus）