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Effect of nickel concentration on bias reliability and thermal stability of thin-film transistors fabricated by Ni-metal-induced crystallization
Ming Hui Lai
*
,
Yew-Chuhg Wu
, Jung Jie Huang
*
此作品的通信作者
材料科學與工程學系
研究成果
:
Article
›
同行評審
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指紋
指紋
深入研究「Effect of nickel concentration on bias reliability and thermal stability of thin-film transistors fabricated by Ni-metal-induced crystallization」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Thin film transistors
100%
Crystallization
85%
Thermodynamic stability
80%
Nickel
72%
Hot carriers
52%
Metals
50%
Contamination
37%
Transistors
33%
Organic light emitting diodes (OLED)
25%
Temperature
23%
Polysilicon
22%
Leakage currents
21%
Display devices
14%
Physics & Astronomy
thermal stability
68%
nickel
63%
transistors
62%
crystallization
60%
thin films
40%
metals
40%
contamination
35%
high temperature environments
27%
silicon transistors
27%
immunity
22%
leakage
16%
light emitting diodes
15%
traps
14%
performance
8%
temperature
5%