Direct patterning of low-k hydrogen silsesquioxane using x-ray exposure technology
T. C. Chang*, T. M. Tsai, Po-Tsun Liu, Y. S. Mor, C. W. Chen, Jeng-Tzong Sheu, Tseung-Yuen Tseng
*此作品的通信作者
研究成果: Article › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）