Device isolation process for 4H-SiC CMOS ICs

Bing Yue Tsui*, Ya Ru Jhuang, Jian Hao Lin, Yi Ting Huang, Te Kai Tsai, Kai Ti Hsu, Yi Han Su, Yong Fen Hsieh

*此作品的通信作者

研究成果: Conference contribution同行評審

2 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Device isolation process for 4H-SiC CMOS ICs」主題。共同形成了獨特的指紋。

Engineering

Keyphrases