Design to avoid the over-gate-driven effect on ESD protection circuits in deep-submicron CMOS processes

Ming-Dou Ker*, Wen Yi Chen

*此作品的通信作者

    研究成果: Conference contribution › 同行評審

    14 引文 斯高帕斯（Scopus）

    指紋

    深入研究「Design to avoid the over-gate-driven effect on ESD protection circuits in deep-submicron CMOS processes」主題。共同形成了獨特的指紋。

    Keyphrases

    Engineering

    Computer Science

    Material Science