Damage-free plasma etching processes for future nanoscale devices

S. Samukawa*

*此作品的通信作者

研究成果: Conference article同行評審

4 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Damage-free plasma etching processes for future nanoscale devices」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Physics

Material Science