Cryogenic Endurance of Anti-ferroelectric and Ferroelectric Hf_1-xZr_XO_2 for Quantum Computing Applications

K. Y. Hsiang, J. Y. Lee, Z. F. Lou, F. S. Chang, Z. X. Li, C. W. Liu, T. H. Hou, P. Su, M. H. Lee*

*此作品的通信作者

研究成果: Conference contribution › 同行評審

2 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Cryogenic Endurance of Anti-ferroelectric and Ferroelectric Hf_1-xZr_XO_2 for Quantum Computing Applications」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Material Science