CMP of ultra low-k material porous-polysilazane (PPSZ) for interconnect applications
T. C. Chang*, T. M. Tsai, Po-Tsun Liu, C. W. Chen, S. T. Yan, H. Aoki, Y. C. Chang, Tseung-Yuen Tseng
*此作品的通信作者
研究成果 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）