Characterization of Slow Traps in SiGe MOS Interfaces by TiN/Y2O3 Gate Stacks

T. E. Lee*, K. Toprasertpong, M. Takenaka, S. Takagi

*此作品的通信作者

研究成果: Conference contribution › 同行評審

3 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Characterization of Slow Traps in SiGe MOS Interfaces by TiN/Y2O3 Gate Stacks」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Chemistry

Material Science