Characterization of inter-poly high-κ dielectrics for next generation stacked-gate flash memories

Y. Y. Chen*, T. H. Li, K. T. Kin, Chao-Hsin Chien, J. C. Lou

*此作品的通信作者

    研究成果: Conference contribution › 同行評審

    2 引文 斯高帕斯（Scopus）

    指紋

    深入研究「Characterization of inter-poly high-κ dielectrics for next generation stacked-gate flash memories」主題。共同形成了獨特的指紋。

    Keyphrases

    Engineering

    Material Science