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Characterization of ESD-induced electromigration on CMOS metallization in on-chip ESD protection circuit
Yang Shou Hou,
Chun Yu Lin
電子研究所
研究成果
:
Article
›
同行評審
2
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Characterization of ESD-induced electromigration on CMOS metallization in on-chip ESD protection circuit」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
On chip
100%
Electrostatic Discharge (ESD) Protection
100%
Electrostatic Discharge
100%
Electromigration
100%
Protection Circuit
100%
Metallization
100%
CMOS Process
22%
Metal Line
11%
Discharge Events
11%
System Level
11%
Metal Cans
11%
IC Reliability
11%
Valuable Insight
11%
Discharge Voltage
11%
Voltage Increase
11%
Discharge Energy
11%
Work Analysis
11%
Metal Sensitivity
11%
Engineering
Electrostatic Discharge
100%
Metallizations
100%
Electromigration
100%
Discharge Energy
8%
Metal Sensitivity
8%
Material Science
Electronic Circuit
100%