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Characteristics of highly orientated BiFeO
3
thin films on a LaNiO
3
-coated Si substrate by RF sputtering
Yen Ting Liu,
San-Yuan Chen
, Hsin Yi Lee
*
*
此作品的通信作者
材料科學與工程學系
研究成果
:
Article
›
同行評審
6
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Characteristics of highly orientated BiFeO
3
thin films on a LaNiO
3
-coated Si substrate by RF sputtering」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
BiFeO3 Film
100%
BiFeO3 Thin Film
100%
C(X)
25%
Crystal Quality
25%
Crystalline Film
25%
Deposition Temperature
50%
Diffraction Measurements
25%
High-resolution
25%
LaNiO3
100%
Microstructure
25%
Partially Crystalline
25%
Polycrystalline Films
25%
Remnant Polarization
25%
RF Sputtering
100%
RF Sputtering Method
25%
Si Substrate
100%
Substrate Temperature
50%
Surface Roughness
25%
Temperature Rise
25%
X-ray Reflectivity
50%
Material Science
Bismuth Ferrite
100%
Density
11%
Diffraction Measurement
11%
Film
100%
Magnetron Sputtering
11%
Reflectivity
22%
Surface Roughness
11%
Thin Films
100%