Characteristics of fluorine implantation for HfO2 gate dielectrics with high-temperature postdeposition annealing

Chao Sung Lai*, Woei Cherng Wu, Jer Chyi Wang, Tien-Sheng Chao

*此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

9 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Characteristics of fluorine implantation for HfO2 gate dielectrics with high-temperature postdeposition annealing」主題。共同形成了獨特的指紋。

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