Application of supercritical C O2 fluid for dielectric improvement of Si Ox film

Chih Tsung Tsai, Ting Chang Chang*, Po-Tsun Liu, Yi Li Cheng, Kon Tsu Kin, Fon Shan Huang

*此作品的通信作者

研究成果: Article › 同行評審

9 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Application of supercritical C O2 fluid for dielectric improvement of Si Ox film」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Material Science

Chemical Engineering

Engineering