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Annealing effect of scratch characteristics of ZnMgO epilayers on R-plane sapphire
Hua Chiang Wen, Ming Chu Hsieh,
Yu-Pin Lan
,
Wu-Ching Chou
照明與能源光電研究所
電子物理學系
研究成果
:
Article
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Annealing effect of scratch characteristics of ZnMgO epilayers on R-plane sapphire」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Epilayer
100%
R-plane Sapphire
100%
Annealing Effect
100%
ZnMgO
100%
Scratch Characteristics
100%
Bulge
66%
Annealing
33%
Atomic Force Microscopy
33%
Annealing Treatment
33%
Metal Organic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE)
33%
Microscopic Examination
33%
Crystallites
33%
Bonding Force
33%
Different Substrate Temperature
33%
Nanomaterial Properties
33%
M-plane Sapphire
33%
Material Science
Sapphire
100%
Epilayers
100%
Film
25%
Annealing
25%
Vapor Phase Epitaxy
25%
Crystallite
25%
Atomic Force Microscopy
25%