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A Nanosized-Metal-Grain Pattern-Dependent Model for Work-Function Fluctuation of Gate-All-Around Silicon Nanofin and Nanosheet MOSFETs
Wen Li Sung,
Yiming Li
*
*
此作品的通信作者
電信工程研究所
研究成果
:
Conference contribution
›
同行評審
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
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指紋
指紋
深入研究「A Nanosized-Metal-Grain Pattern-Dependent Model for Work-Function Fluctuation of Gate-All-Around Silicon Nanofin and Nanosheet MOSFETs」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Error correction
23%
Field effect transistors
47%
Metals
42%
Nanosheets
100%
Silicon
52%
Uncertainty
13%
Chemical Compounds
Error
49%
Metal
9%
Nanosheet
54%
Simulation
27%
Work Function
76%