研究成果: Patent
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TY - PAT
T1 - 閘極堆疊結構及包含其之金屬氧化物半導體元件及閘極堆疊結構之製造方法
AU - Chang, Edward Yi
PY - 2017/7/11
Y1 - 2017/7/11
M3 - Patent
M1 - 2550488
ER -