吳 耀銓

研究成果

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每年研究成果

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• 2003

  Improved annealing process for electroless Pd plating induced crystallization of amorphous silicon

  Hu, G. R., Huang, T. J. & Wu, Y-C., 1 8月 2003, 於: Japanese Journal of Applied Physics, Part 2: Letters. 42, 8 A, p. L895-L897 3 p.

  研究成果: Letter › 同行評審

  • Silicides 100%
  • Amorphous silicon 99%
  • Electroless plating 98%
  • plating 80%
  • Crystallization 79%
  1 引文 斯高帕斯（Scopus）