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查看斯高帕斯 (Scopus) 概要
寒川 誠二
教授
電信工程研究所
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h10-index
h5-index
4423
引文
28
h-指數
按照存儲在普爾（Pure）的出版物數量及斯高帕斯（Scopus）引文計算。
1492
引文
17
h-指數
按照存儲在普爾（Pure）的出版物數量及斯高帕斯（Scopus）引文計算。
301
引文
10
h-指數
按照存儲在普爾（Pure）的出版物數量及斯高帕斯（Scopus）引文計算。
1989 …
2023
每年研究成果
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研究成果
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(10)
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指紋
查看啟用 Seiji Samukawa 的研究主題。這些主題標籤來自此人的作品。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Etching
100%
Plasmas
68%
Plasma etching
25%
Electron cyclotron resonance
21%
Ions
17%
Photoluminescence
17%
Fabrication
16%
Silicon
15%
Electrons
13%
Defects
13%
Photons
12%
Plasma sources
12%
Temperature
10%
Chlorine
10%
Solar cells
10%
Oxides
10%
Inductively coupled plasma
9%
Irradiation
9%
Gases
9%
Oxidation
9%
Fluorocarbons
8%
Polysilicon
8%
Negative ions
8%
Nanopillars
8%
Substrates
8%
Plasma density
8%
Masks
8%
Photoresists
7%
Field effect transistors
7%
Nitrogen
6%
Light absorption
6%
Germanium
6%
Interface states
6%
Plasma applications
6%
Radiation damage
6%
Oxygen
6%
Chemical vapor deposition
6%
Electron temperature
5%
Aspect ratio
5%
Metals
5%
Nanostructures
5%
Chemical reactions
5%
Dielectric films
5%
Quantum confinement
5%
Surface roughness
5%
FinFET
5%
Ultraviolet radiation
5%
Semiconductor quantum wells
5%
Light emitting diodes
5%
Physics & Astronomy
neutral beams
67%
etching
62%
damage
24%
plasma etching
21%
ultrahigh frequencies
17%
electron cyclotron resonance
15%
chlorine
11%
pulses
10%
templates
10%
wafers
8%
silicon
8%
negative ions
8%
fluorocarbons
7%
fabrication
7%
electron energy
7%
plasma density
7%
photoluminescence
7%
photoresists
6%
ions
6%
gases
6%
oxidation
6%
field effect transistors
6%
defects
5%
irradiation
5%
oxides
5%
masks
5%
performance
5%
plasma jets
5%
photons
5%
Chemical Compounds
Etching
49%
Plasma
26%
Nanodisc
16%
Liquid Film
6%
Surface
5%
Quantum Dot
5%
Energy
5%
