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林 鴻志
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Review article
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1998
Evaluation of plasma charging damage in ultrathin gate oxides
Lin, H.-C.
, Chen, C. C.,
Chien, C.-H.
, Hsein, S. K., Wang, M. F.,
Chao, T.-S.
, Huang, T. Y. & Chang, C. Y.,
1 3月 1998
,
於:
IEEE Electron Device Letters.
19
,
3
,
p. 68-70
3 p.
研究成果
:
Review article
›
同行評審
Charge Plasma
100%
Charging Damage
100%
Ultra-thin Gate Oxide
100%
Gate Oxide
100%
Plasma Damage
100%
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引文 斯高帕斯(Scopus)