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查看斯高帕斯 (Scopus) 概要
柯 富祥
教授
材料科學與工程學系
https://orcid.org/0000-0001-6464-1737
h-index
h10-index
h5-index
5440
引文
41
h-指數
按照存儲在普爾（Pure）的出版物數量及斯高帕斯（Scopus）引文計算。
1399
引文
21
h-指數
按照存儲在普爾（Pure）的出版物數量及斯高帕斯（Scopus）引文計算。
558
引文
11
h-指數
按照存儲在普爾（Pure）的出版物數量及斯高帕斯（Scopus）引文計算。
1996 …
2025
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指紋
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(30)
研究成果
(301)
類似的個人檔案
(6)
指紋
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排序方式
重量
按字母排序
Material Science
Aluminum Oxide
12%
Annealing
13%
Capacitor
25%
Carbon Nanotube
11%
Composite Material
9%
Copolymer
16%
Density
35%
Dielectric Material
47%
Electrical Property
19%
Field Effect Transistor
20%
Film
100%
Gold Nanoparticles
35%
Hafnium
11%
Hydrogel
13%
Hydrogen
15%
Lithography
83%
Nanocrystals
16%
Nanoparticle
37%
Nanostructure
19%
Nanowire
38%
Nitride Compound
11%
Optical Property
10%
Oxide Compound
27%
Oxide Film
11%
Permittivity
27%
Perovskite Solar Cell
13%
Photosensor
14%
Polyimide
14%
Polymer
26%
Radiative Cooling
18%
Radioactive Tracer
10%
Self Assembly
15%
Silicate
10%
Silicide
9%
Silicon
77%
Silicon Dioxide
12%
Silicon Nitride
15%
Silicon Substrate
10%
Silver Nanoparticle
14%
Sol-Gel
32%
Solar Cell
16%
Spin Coating
17%
Thermal Stability
18%
Thin Films
27%
Thin-Film Transistor
42%
Titanium Dioxide
9%
Transistor
13%
Zinc Oxide
22%
Zirconia
13%
ZnO
10%
Keyphrases
Annealing
9%
Antireflection Coating
24%
ArF Lithography
13%
Au Nanoparticles (AuNPs)
11%
Baking Temperature
8%
Binary Mask
8%
Bottom Anti-reflective Coating
30%
Coating Layer
14%
Coating Structure
16%
Deep Ultraviolet
8%
Electrical Detection
9%
Electrical Properties
13%
Electron Beam
7%
Electron Beam Lithography
14%
Excimer Laser
8%
Fabry-Perot
13%
Flash Memory
7%
Flexible Metal
11%
Gate Dielectric
7%
Gold Nanoparticles
24%
Hafnium Silicate
10%
KrF Lithography
9%
Laser Lithography
8%
Limit of Detection
8%
Low Dielectric Constant
8%
Memory Device
9%
Metal-insulator-metal Capacitor
9%
Metallic Impurities
8%
Microwave Heating
9%
Microwave Irradiation
8%
Nanocrystal Memory
9%
Nanocrystals
9%
Nanogap Electrodes
11%
Nanostructures
11%
Optical Lithography
13%
Optical Properties
8%
Oxide-based
9%
Perovskite Solar Cells (PeSCs)
8%
Photoresist
7%
Poly-Si
9%
Polysilicon
9%
Silica
10%
Silver Nanoparticles
8%
Silver Nanorods
11%
Sol-gel
22%
Sol-gel Spin Coating
13%
Thin-film Transistors
15%
Visible Light
7%
Wafer
8%
Zinc Oxide
9%
