簡 昭欣

研究成果

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每年研究成果

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• 1998

  Evaluation of plasma charging damage in ultrathin gate oxides

  Lin, H-C., Chen, C. C., Chien, C-H., Hsein, S. K., Wang, M. F., Chao, T-S., Huang, T. Y. & Chang, C. Y., 1 3月 1998, 於: IEEE Electron Device Letters. 19, 3, p. 68-70 3 p.

  研究成果: Review article › 同行評審

  • Plasmas 100%
  • Oxides 93%
  • Transconductance 83%
  • Plasma 67%
  • Oxide 58%
  28 引文 斯高帕斯（Scopus）