場發射穿透式電子顯微鏡

設備/設施: Equipment

設備詳細資料

Description

重要規格 : (1) 電子槍:ZrO/W(100) Schottky type. (2)最大加速電壓:200kV. (3) 放大倍率:x50~x2M. (4) Point resolution:<=0.23nm. (5)Lattice resolution:<=0.1nm. (6) 最大傾轉角度:+35~-35度 服務項目: (1)TEM:材料試片之微細組織,晶體結構之缺陷觀察,擇區繞射定結晶結構。

詳細資料

名字JEM-F200
擷取日期1/12/16
生產商JEOL Ltd.
設備相關照片 - 2017080303043520336.jpg

指紋

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