熱蒸鍍系統/雙電子槍蒸鍍系統 (B)

設備/設施: Equipment

設備詳細資料

Description

功能: (1) 薄膜蒸鍍(限半導體製程常用之材料)

重要規格: (1) EB gun Model EGL-35M * 5kw EB power. (2) Cryo pump U-10 pu(2300 L/S N2),最低壓力3.0E-7 Torr. (3) 基板大小:4"、6"

詳細資料

名字ULVAC EBX-10C
擷取日期1/05/93
生產商ULVAC, Inc.
設備相關照片 - 20171012094126.jpg