Abstract
微影技術為半導體之核心，惜國內尚無中文微影技術專書，因此決定教研之餘撰寫本書，以彌補此缺憾與空白，並為推動科技中文化，略盡一已棉薄之力。
本書重點在微影技術原理與概念之說明，而不在生產線上實務細節之描述。內容包括微影技術全部重要內涵，例如微影製程、微影光學、主要微影方法、其他微影方法、圖罩與圖視、阻劑、解像度增進技術銅互連線、化學機械研磨、電漿蝕刻與光學微影模擬。甚於多年在交通大學應用化學研究所之教學經驗，本書亦包含瞭解微影技術必要之矽製程背景知識與基礎光學。未來數年，半導體量產線幅當推進至90-65-45奈米技術節點。本書對相關領域讀者應有所助益與參閱價值
本書重點在微影技術原理與概念之說明，而不在生產線上實務細節之描述。內容包括微影技術全部重要內涵，例如微影製程、微影光學、主要微影方法、其他微影方法、圖罩與圖視、阻劑、解像度增進技術銅互連線、化學機械研磨、電漿蝕刻與光學微影模擬。甚於多年在交通大學應用化學研究所之教學經驗，本書亦包含瞭解微影技術必要之矽製程背景知識與基礎光學。未來數年，半導體量產線幅當推進至90-65-45奈米技術節點。本書對相關領域讀者應有所助益與參閱價值
| Original language | Chinese (Traditional) |
|---|---|
| Publisher | 五南 |
| Number of pages | 973 |
| ISBN (Print) | 9789571137261 |
| State | Published - Oct 2004 |